数字掩模投影光刻的极限分辨率研究

• 作者: 刘玉环 段宣明 董贤子 赵圆圆 赵震声 郑美玲
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 仪器数字掩模投影光刻 数字微镜器件 跨尺度 飞秒激光 分辨率
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 354-359
• 页数: 6页
• 分类号: TN249|TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2019.03.016

摘要

研究了一种基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模投影光刻(DMPL)技术,以400 nm飞秒激光作为光源,结合高缩放比投影系统,来缩小光刻胶与光子束的反应区域,通过调控不同DMD像素投影光场强度分布,将投影光刻的线宽分辨率推进至亚微米尺度,实现了具有跨尺度加工能力(单次曝光面积在百微米以上,曝光精度在百纳米)的DMPL技术,同时详细对比分析了DMPL中存在的几何和物理光学模型,阐明了像素个数与加工结构尺寸的关系,并进一步基于物理光学模型分析了DMPL中极限分辨率的关键科学问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑美玲	中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心	10	23	3.0	4.0
2	段宣明	中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心	25	80	5.0	7.0
6	董贤子	中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心	14	35	3.0	4.0
7	赵圆圆	中国科学院重庆绿色智能技术研究院	2	1	1.0	1.0
8	刘玉环	中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心	2	6	1.0	2.0