三维微结构显微干涉检测方法

• 作者: 于颢彪 孙一峰 袁群 高志山
• 来源期刊: 电光与控制
• 学科: 物理学
• 关键词: 三维形貌 微结构 干涉检测 显微镜
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 专家论坛
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O436
• 字数: 4108字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-637X.2019.11.001

摘要

三维微结构在光陷阱、隐身与光场调控、超高压密封、人工生物材料等领域具有重要的应用价值.三维微结构的加工制造方法,包括激光直写、光刻、电子与化学蚀刻等先进制造方法发展迅速,其检测仪器有扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、激光共焦显微镜、低相干干涉显微镜,但这些检测仪器一直受到西方发达国家垄断.阐述国内在低相干干涉显微测量方法方面的研究进展,包括干涉显微镜的光学设计方法、装校流程、宽谱低相干干涉图处理与微结构形貌复原方法,并给出了不确定度评定结果.结果 表明:仪器三维形貌合成不确定度为0.9nm,最大微结构轴向分辨率为0.13 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高志山	南京理工大学电子工程与光电技术学院	71	465	12.0	18.0
2	袁群	南京理工大学电子工程与光电技术学院	19	28	4.0	4.0
3	孙一峰	南京理工大学电子工程与光电技术学院	3	0	0.0	0.0
4	于颢彪	南京理工大学电子工程与光电技术学院	3	0	0.0	0.0