酸碱度对磁流变抛光去除作用的调节机制

• 作者: 刘佳保 叶敏恒 张云飞 李晓媛 王超 田东 董会
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 酸碱度 去除效率 粗糙度 熔石英
• 年，卷（期）: 2019,（12）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 2602-2608
• 页数: 7页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 3682字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20192712.2602

摘要

随着磁流变抛光技术在超精密加工领域的应用需求不断增长,提高该技术的抛光效率成为一种必然趋势.本文从研究磁流变抛光液料浆的性质出发,建立了以pH值调节为手段改善抛光液性能的实验方法.采用透射电镜、粒度分析,黏度测试和Zeta电位测试等实验分析表征了抛光颗粒的分散行为及料浆的流变特性,并对抛光料浆特性进行了研究和优化.结果表明:当pH值为12时,抛光料浆具有绝对值最大的Zeta电位(33.28 mV)和最小的颗粒粒径(260 nm),获得了抛光颗粒分散均匀、悬浮性能稳定的料浆.使用该料浆抛光液与初始抛光液在相同工艺条件下对熔石英进行抛光.实验结果表明,在未明显恶化表面粗糙度的前提下,该抛光液的峰去除效率和体去除效率分别提升87％和66％,获得了良好、高效的去除效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云飞	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	21	59	5.0	6.0
2	李晓媛	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	10	21	2.0	4.0
3	王超	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	35	184	7.0	12.0
4	田东	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	4	5	1.0	2.0
5	董会	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	4	0	0.0	0.0
6	叶敏恒	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	1	0	0.0	0.0
7	刘佳保	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	1	0	0.0	0.0