磁流变抛光去除函数获取的微分解耦方法

• 作者: 何建国 张云飞 杨航 黄文
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 去除函数 微分解耦 非球面 抛光斑演变
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 85-91
• 页数: 7页
• 分类号: TH162.1
• 字数: 5052字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.082005

摘要

针对非球面光学元件连续变曲率的特点,提出了一种基于平面抛光斑演变获取非球面磁流变抛光去除函数的技术思路.通过分析磁流变抛光机理,建立了磁流变抛光多因素耦合作用模型.基于该模型提出磁流变抛光去除函数获取的微分解耦方法,实现对抛光斑形成机制中的几何因素解耦,发现当工艺条件变化较小时,在空间中的特定点处,去除效率的变化量与工件浸入深度的改变量呈线性关系.实验观测的20个点中,有17处决定系数在90％以上,另外3处在80％以上,峰值去除率和体积去除率演变的决定系数分别达到92％和94％,实验验证了这一结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云飞	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	21	59	5.0	6.0
2	何建国	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	56	300	9.0	15.0
3	黄文	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	49	206	7.0	12.0
4	杨航	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	3	7	1.0	2.0