光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究

• 作者: 姜涛 林桂丹 王詹帅 郭隐彪
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 气囊抛光 去除效率 工艺参数 去除函数 抛光斑尺寸
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 机械与材料工程
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TH706
• 语种: 中文
• DOI: 10.13245/j.hust.150103

摘要

基于Preston方程分析了气囊抛光特性，确定去除函数的三个重要特征，即抛光斑尺寸、形状以及去除量，得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数．通过定点抛光实验，分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响．结果表明：充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大，去除效率随气囊充气压强增大先升高到2．08 mm3／min后逐渐降低然后又升高，压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率，分别可以达到6．84 mm3／min和5．04 mm3／min ．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭隐彪	厦门大学机电工程系	115	781	14.0	20.0
2	姜涛	厦门大学机电工程系	6	25	4.0	4.0
3	林桂丹	厦门大学机电工程系	4	14	3.0	3.0
4	王詹帅	厦门大学机电工程系	4	19	2.0	4.0