磁流变抛光技术的工艺试验

• 作者: 李耀明 沈兴全 王爱玲
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变 抛光 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 64-66
• 页数: 3页
• 分类号: TG58
• 字数: 1544字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.05.013

摘要

本文研究了利用自行配制的水基磁流变抛光液和抛光样机,进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验,试验中所用工件为直径12 mm的BK7玻璃零件,其初始表面粗糙度的均方根值为RMS 1.41 nm,经抛光后得到理想的表面粗糙度的均方根值为RMS 0.61 nm的玻璃工件,结果表明:随着磁流变抛光磁场强度的增加,抛光去除效率逐渐提高,但表面粗糙度的值随之降低;抛光盘转速的提高能促进抛光效率的提高,降低表面粗糙度值;抛光盘与工件间的间隙的减小有利于提高抛光效率但同时使表面粗糙度变差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王爱玲	中北大学机械工程与自动化学院	54	300	10.0	13.0
2	沈兴全	中北大学机械工程与自动化学院	116	573	12.0	16.0
3	李耀明	中北大学机械工程与自动化学院	26	85	6.0	7.0