200纳米分辨率X光探测器

• 来源期刊: 光学精密机械
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米分辨率 X光图像 科学研究中心 化学工业公司 X光成像 理论极限 理化学研究所 透明薄膜
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 页码范围: 29-29
• 页数: 1页
• 分类号: TP3

摘要

日本高亮度光科学研究中心(JASRI)、理化学研究所及神岛化学工业公司组成的研究小组,成功开发出能分辨200纳米结构的高分辨率X光成像探测器。这款X光探测器拥有全球最高的分辨率,能获得前所未有的高精细X光图像。研究小组利用X光转换为可见光,开发了无接合层的5微米厚透明薄膜闪烁体,大幅提高了光学特性,实现了接近X光成像理论极限的200纳米分辨率。利用该探测器,研究小组成功拍摄了超大规模集成电路(VLSI)器件内部300纳米宽的布线。这是全球首次以实用水平画质无损拍摄出VLSI内部的微细布线。