硅抛光片全自动湿法清洗设备的研制

• 作者: 夏楠君 王文丽 祝福生 赵宝君 郭立刚
• 来源期刊: 清洗世界
• 学科: 工学
• 关键词: 硅抛光片 湿法清洗 表面颗粒 兆声清洗
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 22-24,27
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 3935字
• 语种: 中文

摘要

硅抛光片清洗的目的在于清除有机物沾污、表面颗粒、金属沾污、自然氧化膜等.本文阐述了硅抛光片湿法清洗的工作原理,并对硅抛光片全自动湿法设备的组成、结构及单元模块的主要功能进行了详细介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宝君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	4	2	1.0	1.0
2	祝福生	中国电子科技集团公司第四十五研究所	15	29	3.0	5.0
3	王文丽	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	9	2.0	3.0
4	郭立刚	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	0	0.0	0.0
5	夏楠君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	10	11	2.0	3.0