高能电子成像暗场成像技术特性研究及改进方案

• 作者: 刘铭 张子民 曹树春 李中平 申晓康 程锐 肖家浩 袁平 赵全堂 赵永涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 高能量密度物理 高能电子成像 暗场成像 空间分辨能力 面密度分辨本领
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 加速器技术
• 页码范围: 105-111
• 页数: 7页
• 分类号: O463.1
• 字数: 3525字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201931.190003

摘要

基于EGS5与PARMELA模拟软件组成的高能电子成像系统,对暗场成像的模拟研究发现,通过调节光阑位置实现的暗场成像结果存在失真现象.针对该失真现象提出的改进方案,消除了暗场成像结果的失真.通过对40 MeV电子透射7～224μm的铝样品开展的成像模拟结果表明:40 MeV高能电子暗场成像技术在铝样品厚度小于25μm情况下具有明显的面密度分辨优势,且空间分辨率达到 μm量级,非常适用于高能量密度物质诊断.