聚焦电子束对透射式微焦点X射线源的影响

• 作者: 刘俊标 牛耕 赵伟霞 韩立 马玉田
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光学 微计算机断层扫描技术 X射线焦点 电子束 扩散
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: X射线光学
• 页码范围: 408-414
• 页数: 7页
• 分类号: TN16
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201939.0634001

摘要

微焦点X射线源是微计算机断层扫描技术设备的核心部件.研究了电子束在靶材中的横向扩散引起的透射式微焦点射线源的焦点尺寸和强度的变化规律.结果 表明:当打靶电子柬的柬流密度遵循高斯分布时,其产生的X射线强度也遵循高斯分布,该分布的标准差可以用来精确表示X射线的焦点尺寸;当靶材厚度可以使沉积电子束的能量达到60％时,对应的靶材产生的X射线强度最高;随着靶材厚度增加,X射线的焦点尺寸逐渐变大;增大电子束的加速电压可以适当减小X射线的焦点.本研究为透射式微焦斑X射线源的靶材选择和设计提供了理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊标	中国科学院电工研究所	45	181	8.0	11.0
2	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
3	牛耕	中国科学院电工研究所	11	22	2.0	4.0
4	马玉田	中国科学院电工研究所	10	4	1.0	1.0
5	赵伟霞	中国科学院电工研究所	8	3	1.0	1.0