高线密度X射线透射光栅的制作工艺

• 作者: 刘明 叶甜春 姜骥 张庆钊 曹磊峰 朱效立 杨家敏 牛洁斌 谢常青 赵珉 陈宝钦 马杰
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻 透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2006-2010
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 3490字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.12.029

摘要

采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5 mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性.