H2O2处理对于ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 张文通 李博 王天宇 金宝昌 高晓红
• 来源期刊: 电脑知识与技术
• 学科: 教育
• 关键词: 射频磁控溅射 ZnO薄膜 H2O2处理
• 年，卷（期）: 2019,（8）
• 所属期刊栏目: 计算机工程应用技术
• 页码范围: 240-242
• 页数: 3页
• 分类号: G642
• 字数: 2163字
• 语种: 中文

摘要

本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响.采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD表征薄膜的结晶情况,用SEM表征ZnO薄膜材料的表面形貌.结果表明经3％浓度的H2O2处理10s的ZnO薄膜缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大.利用H2O2处理可以降低ZnO薄膜的缺陷态,提高了其在应用中的电学稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高晓红	吉林建筑大学电气与计算机学院	34	266	4.0	16.0
2	李博	吉林建筑大学电气与计算机学院	10	2	1.0	1.0
3	张文通	吉林建筑大学电气与计算机学院	5	0	0.0	0.0
4	王天宇	吉林建筑大学电气与计算机学院	4	0	0.0	0.0
5	金宝昌	吉林建筑大学电气与计算机学院	4	0	0.0	0.0