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摘要:
化学机械抛光(CMP)设备广泛应用于光学加工领域,其对抛光轴精度和稳定性要求高.高精度气体静压轴承因具有精度稳定性和保持性高的特点而广泛应用于超精密加工及检测相关领域.本文面向CMP设备的需求,利用FLUENT对高精度气体静压轴承性能进行承载能力和刚度分析,包括气体静压止推轴承和气体静压径向轴承.结果表明,设计的高精度气体静压轴承能够满足CMP设备的要求.
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文献信息
篇名 基于FLUENT的高精度气体静压轴承性能分析
来源期刊 中国设备工程 学科 工学
关键词 化学机械抛光设备 气体静压轴承 性能分析
年,卷(期) 2019,(24) 所属期刊栏目 工艺与技术
研究方向 页码范围 124-125
页数 2页 分类号 TH133.36
字数 879字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵惠英 西安交通大学机械工程学院 20 144 8.0 11.0
2 赵凌宇 西安交通大学机械工程学院 12 23 2.0 4.0
3 朱生根 哈尔滨工业大学机电工程学院 2 0 0.0 0.0
4 曹明琛 西安交通大学机械工程学院 1 0 0.0 0.0
5 顾亚文 西安交通大学机械工程学院 1 0 0.0 0.0
6 刘孟奇 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
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化学机械抛光设备
气体静压轴承
性能分析
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中国设备工程
半月刊
1671-0711
11-4623/N
大16开
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82-374
1985
chi
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