国内外碳化硅陶瓷材料研究与应用进展

• 作者: 安迪 康国兴 李辰冉 谢志鹏 赵林 魏红康
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅陶瓷 烧结技术 烧结助剂 碳化硅应用
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 特邀综述
• 页码范围: 1353-1370
• 页数: 18页
• 分类号: TQ174
• 字数: 8679字
• 语种: 中文

摘要

碳化硅陶瓷材料具有良好的耐磨性、导热性、抗氧化性及优异的高温力学性能,被广泛应用于能源环保、化工机械、半导体、国防军工等领域.然而,由于碳化硅为强共价键化合物,且具有低的扩散系数,导致其在制备过程中的主要问题之一是烧结致密化困难.因此,大量研究工作通过烧结技术的研究与烧结助剂的选择和优化等手段促进碳化硅致密化过程,降低烧结温度,细化晶粒,改善碳化硅陶瓷材料的各项性能.本文基于对碳化硅材料烧结行为、显微结构以及力学性能的认识,综述了碳化硅烧结工艺的发展及烧结助剂的选择标准,同时分析和介绍了碳化硅陶瓷材料在传统工业与现代科技领域的应用现状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢志鹏	清华大学材料学院新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	182	1898	22.0	36.0
2	赵林	景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院	21	67	6.0	7.0
3	魏红康	景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院	16	76	6.0	8.0
4	安迪	清华大学材料学院新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	11	126	3.0	11.0
5	李辰冉	景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院	4	2	1.0	1.0
7	康国兴		4	1	1.0	1.0