大豆种荚应答镰刀菌侵染的叶绿素荧光成像规律

• 作者: 刘江 张启辉 张静 杨文钰 肖新力 龙希洋
• 来源期刊: 浙江农林大学学报
• 关键词: 大豆 种荚 轮枝镰刀菌 叶绿素荧光成像 抗性鉴定
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 页码范围: 540-546
• 页数: 7页
• 分类号: S332
• 语种: 中文
• DOI: 10.11833/j.issn.2095-0756.20190325

摘要

[目的]种荚是大豆Glycine max防御霉菌侵染的第1道防线,部分大豆品种种荚具有极佳的田间霉变抗性,本研究目的在于寻找与豆荚霉变抗性相关的快速鉴定指标.[方法]采用叶绿素荧光成像技术,以高抗大豆‘QWT 15-2’、中抗大豆‘E1’和易感大豆‘E314’为研究对象,对离体种荚接种轮枝镰刀菌Fusarium verticillioides,监测其叶绿素荧光参数变化情况.[结果]大豆种荚接种霉菌24h后,通过叶绿素荧光成像系统可清晰观察到豆荚表皮病斑,叶绿素荧光参数发生显著变化.霉菌侵染后0～5 d,大豆种荚初始荧光参数初始荧光(Fo)、最大荧光(Fm)、可变荧光(Fv)大幅降低,非光化学猝灭系数qN上升、QNP下降,最大光化学量子产量(Fv/Fm)、实际光化学效率(ΦPSⅡ)及电子传递速率(RET)均呈下降趋势.[结论]高抗大豆‘QWT 15-2’维持了较健康的组织形态,各荧光参数表现稳定;中抗大豆‘E1’和感病大豆‘E314’受霉菌侵染影响,其表皮组织破坏严重、荧光参数变化幅度大;其中Fv/Fm、Fm、Fv、qN和QNP荧光参数对霉菌侵染响应敏感,可作为评价大豆种荚田间霉变抗性的鉴定指标.