中频反应溅射制备工业级AlN薄膜及耐腐蚀性能研究

• 作者: 俞天智 夏荣斌 范多旺 马海林
• 来源期刊: 兰州交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 氮化铝 迟滞回线 耐腐蚀
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 108-112
• 页数: 5页
• 分类号: TB37|O472+.1
• 字数: 3250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4373.2020.01.017

摘要

针对市面上对产品的耐腐蚀性要求,在工业化生产设备上,利用中频反应磁控溅射方法,在不同样件表面上沉积了氮化铝(AlN)薄膜用于产品外观抗腐蚀保护.研究了反应溅射"迟滞回线"现象并结合紫外-可见-红外光谱测算出所制备的工业级AlN薄膜的光学带隙(Eg)为6.3±0.1 eV.利用人造气氛腐蚀试验探讨了AlN薄膜保护下样品的耐腐蚀性能,结果表明:对于塑料装饰件,在经过72 h铜盐加速醋酸盐雾试验(CASS)时才出现被腐蚀痕迹,而镁合金样件在36 h时CASS试验时出现腐蚀,二者均已达到同类工业产品镀铬膜(Cr)保护层的耐腐蚀性能要求,太阳能真空吸热管多层膜涂层经30 h CASS试验后太阳光谱吸收率有所降低但仍达到合格水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范多旺	兰州交通大学国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心	112	683	14.0	20.0
2	俞天智	兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室	17	88	4.0	9.0
3	夏荣斌	兰州交通大学常州研究院	8	13	2.0	3.0
4	马海林	兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室	7	9	2.0	3.0