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摘要:
The properties of BaTiO3 (BTO) thin films deposited on different substrates by RF magnetron sputtering were investigated. Two representative substrates were selected and different heterostructures were studied. 1) SrTiO3 (STO) single crystals as a bulk oxide reference material, and 2) silicon as a semiconductor. SrRuO3 (SRO) and Pt bottom electrodes were deposited on the silicon substrate. The BTO structural characterizations show that all the films have (001) crystallographic orientation. We have compared the electrical properties of the different samples: the same dielectric constant and polarization values were obtained independently of the nature of the substrate.
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文献信息
篇名 Comparison of Epitaxial and Textured Ferroelectric BaTiO<sub>3</sub>Thin Films
来源期刊 现代物理(英文) 学科 物理学
关键词 FERROELECTRIC Barium TITANATE Thin Film Silicon Sputtering EPITAXY
年,卷(期) 2020,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 509-516
页数 8页 分类号 O48
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研究主题发展历程
节点文献
FERROELECTRIC
Barium
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EPITAXY
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
现代物理(英文)
月刊
2153-1196
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
出版文献量(篇)
1826
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