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压延铜箔表面的电沉积粗化
压延铜箔表面的电沉积粗化
作者:
冯锐
孙玉梅
宫本奎
常保平
王晓文
费翔昱
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
压延铜箔
表面粗化
影响因素
粗化层特性
摘要:
本文概述了压延铜箔表面粗化的工艺过程,讨论了电解液、添加剂、电沉积参数、搅拌强度和脉冲电流等对粗化层结晶形态、表面粗糙度、剥离强度和掉粉等特性的影响,分析了压延铜箔表面粗化的发展趋势。
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文献信息
篇名
压延铜箔表面的电沉积粗化
来源期刊
材料科学
学科
工学
关键词
压延铜箔
表面粗化
影响因素
粗化层特性
年,卷(期)
2020,(5)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
355-362
页数
8页
分类号
TQ3
字数
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DOI
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表面粗化
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粗化层特性
研究起点
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期刊影响力
材料科学
主办单位:
汉斯出版社
出版周期:
月刊
ISSN:
2160-7613
CN:
开本:
出版地:
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
745
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