准直器制备关键工艺技术研究

• 作者: 刘善敏 武晓光 汪炜 王俊
• 来源期刊: 电加工与模具
• 学科: 工学
• 关键词: 准直器 电子束曝光 湿法刻蚀
• 年，卷（期）: 2020,（z1）
• 所属期刊栏目: 超声加工及其他特种加工
• 页码范围: 68-73,78
• 页数: 7页
• 分类号: TG669
• 字数: 5446字
• 语种: 中文

摘要

目前制造的准直器多为单孔结构且孔径较大,且少量多孔准直器结构均匀性差、尺寸精度低,导致准直效果差.研究使用电子束曝光技术在镀有铬金属层和PMMA胶层的石英玻璃表面进行曝光,探究了抗蚀剂厚度、曝光剂量、显影时间对曝光效果的影响.经过大量实验并合理化参数后,曝光出线宽为5μm、周期为120μm的光栅图形.使用湿法刻蚀技术将胶层图形结构转移到石英玻璃上,探究刻蚀温度、刻蚀液配比对刻蚀效果的影响.发现在刻蚀温度30℃、刻蚀液为氢氟酸、盐酸和氟化铵的混合液条件下,最终在石英玻璃表面刻蚀出线宽13.265μm、深度4.049μm的槽结构.采用激光对刻蚀出槽结构的玻璃进行等大小切割并将切割好的玻璃进行结合,可获得具有一定深宽比、结构均匀的准直器结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪炜	南京航空航天大学机电学院	96	639	12.0	20.0
2	王俊	南京航空航天大学机电学院	16	94	6.0	9.0
3	武晓光	南京航空航天大学机电学院	7	78	5.0	7.0
4	刘善敏	南京航空航天大学机电学院	1	0	0.0	0.0