氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

• 作者: 唐坤 孙浩亮 李浩翔 王广欣 逯峙 郭帅东
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 扩散阻挡层 Ta-Ru-N 方块电阻
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 字数: 4021字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.04.002

摘要

采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响.研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加.