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摘要:
采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响.研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加.
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文献信息
篇名 氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响
来源期刊 河南科技大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 磁控溅射 扩散阻挡层 Ta-Ru-N 方块电阻
年,卷(期) 2020,(4) 所属期刊栏目 材料科学与工程
研究方向 页码范围 7-12
页数 6页 分类号 TB43
字数 4021字 语种 中文
DOI 10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.04.002
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
扩散阻挡层
Ta-Ru-N
方块电阻
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
河南科技大学学报(自然科学版)
双月刊
1672-6871
41-1362/N
大16开
河南省洛阳市开元大道263号
36-285
1980
chi
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7
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