电压对纯镁微弧氧化膜层电化学腐蚀行为的影响

• 作者: 孙乐 安凌云 张青菊 王兴平 王晟 马颖
• 来源期刊: 兰州理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纯镁 微弧氧化 电压 腐蚀行为
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TG174
• 字数: 3546字
• 语种: 中文

摘要

采用循环伏安(CV)、动电位极化(Tafel)和电化学阻抗谱(EIS)技术、结合纯镁微弧氧化膜微观形貌,研究电压对膜层电化学腐蚀行为的影响.结果表明:电压对膜层耐蚀性影响显著,随着电压升高,膜层耐蚀性增强,这是因为较厚的膜层厚度为抵御腐蚀介质的侵蚀提供了良好的物理屏障.在整个腐蚀试验过程中,高电压下制备的膜层经历三个阶段:腐蚀介质逐渐渗入膜层,腐蚀介质渗透膜层到达膜基面侵蚀基体,腐蚀产物填充微孔和微裂纹等缺陷.相比而言,低电压下制备的膜层随着浸泡时间的延长,膜层外部疏松层和内部致密层的电阻均逐渐减小,致使耐蚀性降低,最终膜层完全失效.