浅谈OSP印制板表面离子清洁度的改善

• 作者: 冯强 廖润秋 李剑华 赵林飞
• 来源期刊: 印制电路资讯
• 学科: 工学
• 关键词: 离子清洁度 NH4^+ CA^2+
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 页码范围: 105-107
• 页数: 3页
• 分类号: TN4

摘要

随着电子行业的迅速发展,电子产品的集成度越来越高,电路板上的元器件密度越来越大,线与线的间距也越来越小。为防止离子迁移导致的失效,对PCB板面的清洁度的要求也就相应提高了。特别表现在高端电路板应用领域,如航天航空、汽车、高端通讯、高端医疗设备等。而表面处理为OSP的PCB因OSP膜较薄,且不耐酸碱也无法使用离子清洁剂清洗,本文主要讲述如何通过制程控制来改善OSP板表面离子清洁度。