氧化铜/钒酸铋异质结薄膜的制备及其光电性能研究

• 作者: 张伟 王丹丹 田中青
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: BiVO4 CuO 电沉积 光电流
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 催化材料
• 页码范围: 99-102
• 页数: 4页
• 分类号: TQ135.32
• 语种: 中文
• DOI: 10.11962/1006-4990.2019-0469

摘要

采用电化学沉积法在FTO玻璃上制备了具有纳米多孔网状结构的氧化铜/钒酸铋薄膜.利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)对薄膜做成分及结构分析,采用线性伏安扫描(LSV)、频率阻抗测试(EIS)对薄膜做光电性能测试.氧化铜的掺入能够提高钒酸铋薄膜的光电性能,在1.23 Vvs.RHE时,40 mmol/L氧化铜/钒酸铋薄膜的光电流密度为1.39 mA/cm2,比纯钒酸铋薄膜的光电流密度(0.7 mA/cm2)增大了1倍左右.结果表明,纳米多孔的网状结构,提高了薄膜对光的利用效率,同时也增加了薄膜和电解液的接触面积.氧化铜和钒酸铋复合形成异质结后,抑制了光生电子-空穴对的复合,从而提高了氧化铜/钒酸铋薄膜的光电流密度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田中青	重庆理工大学材料科学与工程学院	32	79	5.0	6.0
2	王丹丹	重庆理工大学材料科学与工程学院	3	0	0.0	0.0
3	张伟	重庆理工大学材料科学与工程学院	7	3	1.0	1.0