AgN Ws薄膜光子烧结的工艺研究

• 作者: 李宇 梁雨轩 闫国栋 陈微微 雷国伟 魏葳 黄林泉
• 来源期刊: 陕西煤炭
• 学科: 工学
• 关键词: 透明导电薄膜 AgNWs 薄膜方阻 光子烧结
• 年，卷（期）: 2020,（z1）
• 所属期刊栏目: 问题探讨
• 页码范围: 75-79
• 页数: 5页
• 分类号: TB383
• 字数: 4309字
• 语种: 中文

摘要

通过分析AgNWs薄膜光子烧结工艺的相关因素,如墨水中高分子有机物配比和光子烧结相关工艺参数.得到适应AgNWs薄膜光子烧结的最佳墨水分散液1.0 mg/mL HPMC,0.2 mg/mL海藻酸钠和0.4 mg/mL CMC;AgNWs薄膜的最佳光子烧结工艺是电压500 V,脉冲时间是275μs和反复21次;烧结后AgNWs薄膜方阻下降15％,均匀性从40％下降到15％.研究表明,AgNWs薄膜经过光子烧结后,电学性能得到优化而光学性能基本保持不变,为其在柔性显示方面的应用奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷国伟		3	0	0.0	0.0
2	陈微微		4	2	1.0	1.0
3	闫国栋		3	0	0.0	0.0
4	李宇		3	0	0.0	0.0
5	魏葳		5	2	1.0	1.0
6	黄林泉		3	2	1.0	1.0
7	梁雨轩		2	0	0.0	0.0