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高质量单晶金刚石的合成、结构与光学性能研究
高质量单晶金刚石的合成、结构与光学性能研究
作者:
刘金龙
屠菊萍
朱肖华
李成明
赵云
邵思武
陈良贤
魏俊俊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜
高质量单晶金刚石
透过率
光学吸收系数
痕量杂质
摘要:
采用微波等离子体化学气相沉积法通过控制痕量杂质制备了高质量单晶金刚石材料,并对其结构与光学性能进行综合评价.通过紫外可见吸收光谱和光致发光谱分析了晶体的杂质及含量;采用拉曼光谱、摇摆曲线及X射线白光形貌束分析了不同质量单晶体的晶体结构及结晶质量;通过偏光显微镜综合评价了不同质量单晶金刚石的晶体结构和缺陷.结果 证明:获得的高纯单晶金刚石含有少量的缺陷、杂质,其位错应力场以聚集状均匀分布,高纯单晶金刚石与微掺氮单晶金刚石在紫外可见近红外波段的透过率最高可分别达到71.58%和71.27%,接近单晶金刚石的理论透过率(71.6%),且在本征红外吸收波段,高纯金刚石晶体相对微掺氮单晶金刚石,对称性较好,样品吸光度较小.控制痕量杂质制备的高质量单晶金刚石膜有望应用于光探测器探头和光学窗口.
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文献信息
篇名
高质量单晶金刚石的合成、结构与光学性能研究
来源期刊
光学学报
学科
物理学
关键词
薄膜
高质量单晶金刚石
透过率
光学吸收系数
痕量杂质
年,卷(期)
2020,(6)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
199-206
页数
8页
分类号
O77+2
字数
语种
中文
DOI
10.3788/AOS202040.0631001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
魏俊俊
32
112
5.0
9.0
2
李成明
71
480
12.0
19.0
3
陈良贤
34
69
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5.0
4
刘金龙
34
82
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5
赵云
3
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朱肖华
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邵思武
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
0253-2239
CN:
31-1252/O4
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮发代号:
4-293
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
130170
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