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正负性显影液显影机制简介
正负性显影液显影机制简介
作者:
吴萍
郭景
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要:
在TFT液晶显示器、Color Filter彩色滤光片和集成电路等的制作工艺中,为获得所需的精细pattern图形,需要使用光刻胶这样的感光材料,先以涂布的方式在玻璃基板或基材上形成一定厚度的薄膜,再经掩膜版曝光后,使用显影液进行显影,去除不需要的光刻胶薄膜部分,最终获取需要的图形.显影工艺通常有三种主要方法:浸入式、喷淋式和搅动式显影,目前在TFT液晶显示器、Color Filter彩色滤光片的生产工厂线上基本都是使用的喷淋式显影设备,通过控制设备运转速度达到控制显影的时间长短,在显影段完成后经过再过水洗制程,将残余显影液彻底冲洗,保证产品显影品质.
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正负性显影液显影机制简介
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电子世界
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2020,(19)
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150-151
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2页
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电子世界
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1003-0522
CN:
11-2086/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
2-892
创刊时间:
1979
语种:
chi
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