沉积气氛中CO对MT-Ti(C,N)的微观结构及应用性能的影响

• 作者: 刘超
• 来源期刊: 硬质合金
• 关键词: MT-TiCN CVD 微观结构
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学|MATERIALS SCIENCE
• 页码范围: 149-155
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2021.03.001

摘要

CVD涂层技术是一种被广泛应用于硬质合金可转位刀具的表面处理技术,TiN/MT-Ti(C,N)/α-Al2O3/TiN是目前主流的CVD(Chemical Vapor Deposition)多功能复合涂层,在CVD沉积气氛中添加CO是实现MT-Ti(C,N)的涂层结构、性能调控较为简洁的工业化方式.本文在CVD涂层沉积气氛中添加CO,制备了单层MT-Ti(C,N)及典型的MT-Ti(C,N)/α-Al2O3双层结构涂层,研究了CO添加量对其微观组织、力学性能、涂层结合力及切削性能的影响.结果表明,CO的添加不会改变Ti(C,N)的晶体结构,但会改变Ti(C,N)的晶粒取向,并随着CO添加量的提升逐步细化Ti(C,N)晶粒.CO添加量的变化会引起α-Al2O3取向的变化和涂层结合力的变化,当添加体积分数1％和2.5％的CO时,涂层的常温结合力较好,连续切削寿命较高.