屏蔽材料γ射线积累因子的MCNP模拟

• 作者: 杨体波 王敏 范新洋 廖光辉 代光明
• 来源期刊: 核技术
• 关键词: 积累因子 屏蔽材料 MCNP模拟 轫致辐射
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 核物理、交叉学科研究|NUCLEAR PHYSICS, INTERDISCIPLINARY RESEARCH
• 页码范围: 67-72
• 页数: 6页
• 分类号: TL77
• 语种: 中文
• DOI: 10.11889/j.0253-3219.2021.hjs.44.030503

摘要

在γ射线的屏蔽设计中,选择合适的积累因子对屏蔽效果至关重要.目前,在设计屏蔽材料时,使用单层材料时考虑了轫致辐射的影响,而使用复合材料时并没有考虑.为了提高屏蔽厚度计算的准确性,在考虑轫致辐射的情况下,采用蒙特卡罗(Monte Carlo)方法对单层材料、多层组合材料的积累因子进行研究,模拟了不同γ射线能量和不同屏蔽材料厚度时的积累因子,同时对有无轫致辐射时积累因子的差别进行了对比.结果 表明:对于单层材料和组合材料,轫致辐射对积累因子的贡献在低能和薄屏蔽厚度时较低,在高能和高屏蔽厚度时比较明显;积累因子随γ射线能量的增加呈现出下降的趋势,随着屏蔽厚度的增加呈现出增加的趋势.为实际情况中高能γ射线的屏蔽设计提供了积累因子的参考值以及计算方法.