低浓度二氧化氯气体对黑曲霉生长抑制效果的研究

• 作者: 王妍彦 张流波
• 来源期刊: 中国消毒学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 二氧化氯 低浓度 黑曲霉 抑制作用
• 年，卷（期）: 2021,（12）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 881-883,886
• 页数: 4页
• 分类号: R187.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.11726/j.issn.1001-7658.2021.12.001

摘要

目的 观察低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长是否具有抑制作用.方法 采用培养基平皿为染菌载体,观察低浓度(0.28 ±0.02) mg/m3二氧化氯气体对黑曲霉生长的影响.结果 试验组空气中二氧化氯浓度保持在(0.28±0.02) mg/m3,作用48 h后对照组有霉菌菌落生长,试验组未长出菌落,仅有微量菌丝生长;作用72和96 h,对照组和试验组均有菌落生长,对照组菌落直径及生长面积是试验组的2倍以上;作用48、72和96 h,对照组霉菌生长等级均大于试验组霉菌生长等级.结论 在试验观察期内,低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长有抑制作用.