氧化锑锡纳米材料及其薄膜的制备和光电性能的研究进展

• 作者: 康浩 杨明庆 牛春晖 刘力双 王京飞 吕勇
• 来源期刊: 中国材料进展
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锑锡 纳米材料 薄膜 透过率 电阻率
• 年，卷（期）: 2022,（3）
• 所属期刊栏目: 综合评述|Comprehensive Review
• 页码范围: 197-205
• 页数: 9页
• 分类号: TB383|O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.7502/j.issn.1674-3962.202008011

摘要

氧化锑锡因其固有的高可见光透过率、良好的红外屏蔽性能和导电性, 可应用于节能建筑、光电器件以及军事隐身等领域, 得到了广泛的研究.主要概述了氧化锑锡纳米材料及其薄膜制备技术的研究现状, 介绍了沉淀法、溶胶-凝胶法、水热法/溶剂热法等纳米材料制备技术, 以及喷雾热解法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法和涂覆法等薄膜制备技术, 分析了锑掺杂浓度、干燥方式、煅烧温度、氧气流量、薄膜厚度等工艺参数对氧化锑锡纳米材料及其薄膜的结构特征、光电性能的影响.介绍了氧化锑锡薄膜在光电、建筑、军事等领域的应用现状, 总结了各种制备技术的优缺点, 并就该领域存在的问题及未来的研究和应用方向进行了讨论和展望.