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微纳电子技术期刊
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
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16974

微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名： 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来，汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体，通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向，为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉：
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN：
1671-4776
CN：
13-1314/TN
出版周期：
月刊
邮编：
050002
地址：
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
22
总被引数（次）
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  • 1. 光学高分子薄膜纳米结构与性能关系的探讨
    作者： 万立骏 商广义 朱传凤 沈玉全 邱玲 郝聚民 韩梅娟
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  249-258
    摘要： 应用AFM及力曲线的统计方法(force curve method)和Tapping/Phase功能,比较系统地研究了Glass/ITO基底上旋涂厚度为5μm的非线性光学功能高分子薄膜.结果...
  • 2. 业界快讯
    作者：
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  258,283,296
    摘要：
  • 3. 自组装--自底而上的纳米制造方法(续)
    作者： 曾安培 赵志龙 阿兰·奥瑞尔登
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  259-265,276
    摘要：
  • 4. 生物样品富集微芯片
    作者： 刘康栋 李刚 赵建龙 金庆辉
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  266-271
    摘要： 微全分析系统(micro total analytical system,μTAS)是一个快速发展的领域,生物样品的富集和提取是样品分析的重要环节.由于生物样品种类多、成分复杂,在微芯片上富...
  • 5. GaN材料湿法刻蚀的研究与进展
    作者： 陈朝 黄生荣
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  272-276
    摘要： 回顾了近年来GaN材料湿法刻蚀的研究进展,着重探讨了GaN材料光辅助化学湿法刻蚀的机理、p-GaN材料湿法刻蚀的难点以及湿法刻蚀在GaN材料研究中的应用.
  • 6. 响应[N(NH3)3]气体TiO2敏感材料低阻化研究
    作者： 艾玉杰 裴素华
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  277-279
    摘要： 通过N2气氛高温退火、Nb2O5掺杂和采用梳状电极结构等方法,成功提高了TiO2基敏感材料的电导率.实验证明,降低氧分压可增强TiO2自身半导化程度;掺入10%左右Nb2O5,Nb5+替代T...
  • 7. 一种新型3D微镜结构的静电驱动电压特性分析
    作者： 万江文 冯仁剑 王宝东
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  280-283
    摘要： 介绍了一种新型3D静电驱动微镜结构,对结构的下电极形状进行了改进,分析和比较了它们的几何参数与驱动电压之间的关系.通过理论分析表明,在其他几何参数一致的情况下,方形下电极单极板微镜结构的驱动...
  • 8. 单晶硅各向异性腐蚀的微观动态模拟
    作者： 姚娉 杜立群 郭吉洪 闫卫平 马灵芝
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  284-287
    摘要： 根据单晶硅各向异性腐蚀的特点,以晶格内部原子键密度为主要因素,温度、腐蚀液浓度等环境因素为校正因子,建立了一个新颖的硅各向异性腐蚀的计算机模拟模型.在VC++开发环境下利用OpenGL技术,...
  • 9. ICP刻蚀技术与模型
    作者： 张鉴 黄庆安
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2005年6期
    页码:  288-296
    摘要： 从ICP刻蚀装置、ICP刻蚀技术及模拟模型以及可用于ICP刻蚀模拟的CAD工具研究现状等几方面,对ICP刻蚀过程中所涉及的原理和模型做了较为详细的介绍和比较,以使对ICP刻蚀技术及模型有一个...

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

该刊被以下数据库收录
期刊荣誉
1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

微纳电子技术统计分析

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