ICP刻蚀技术与模型

• 作者: 张鉴 黄庆安
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: ICP刻蚀 等离子体 模型
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 288-296
• 页数: 9页
• 分类号: TN43
• 字数: 7677字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2005.06.008

摘要

从ICP刻蚀装置、ICP刻蚀技术及模拟模型以及可用于ICP刻蚀模拟的CAD工具研究现状等几方面,对ICP刻蚀过程中所涉及的原理和模型做了较为详细的介绍和比较,以使对ICP刻蚀技术及模型有一个较为全面的认识.