Pyrex玻璃的ICP刻蚀技术研究

• 作者: 侯占强 吴学忠 彭智丹 江平 肖定邦
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: ICP刻蚀 MEMS Pyrex玻璃 实验设计
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: MEMS专集
• 页码范围: 556-558
• 页数: 3页
• 分类号: TH16
• 字数: 1714字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2008.04.005

摘要

以SF6/Ar为刻蚀气体,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀Pyrex玻璃,研究气体流量、射频功率对刻蚀速率及刻蚀面粗糙度的影响.采用正交实验方法找出优化的实验参数,得到Pyrex玻璃刻蚀速率为106.8 nm/min,表面粗糙度为Ra=5.483 nm,实验发现增加自偏压是提高刻蚀速率、减小刻蚀面粗糙度的有效方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴学忠	国防科技大学机电工程与自动化学院	70	934	18.0	28.0
2	肖定邦	国防科技大学机电工程与自动化学院	28	149	8.0	11.0
3	侯占强	国防科技大学机电工程与自动化学院	13	72	5.0	7.0
4	江平	国防科技大学机电工程与自动化学院	4	24	3.0	4.0
5	彭智丹		3	9	1.0	3.0