微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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  • 作者: 林骅 潘开林 陈仁章 韦娜
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  341-347
    摘要: 首先简要介绍了目前实现可延展柔性无机电子延展性的主要原理及方式,分析了目前存在的问题;其次,总结了目前提高可延展柔性无机电子延展性能的主要设计,并对可延展柔性无机电子互连结构的力学特性发展现...
  • 作者: 刘孔 卢树弟 寇艳蕾 岳世忠 李彦沛
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  348-354,395
    摘要: 为了提高无机纳米发光材料的发光效率和有机-无机杂化电致发光器件的性能,使用有机金属前驱体法,制备了具有化学组分梯度的ZnCdS/CdxZn1-xSeyS1-y量子点量子阱材料以及CdxZn1...
  • 作者: 吕其坤 顾修全
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  355-358
    摘要: 采用连续式离子层吸附与反应(SILAR)法不仅成功制备出CdS量子点敏化的TiO2纳米晶光阳极,而且实现了Mn2+在CdS量子点晶格内部的可控掺杂.应用场发射扫描电子显微镜(FESEM)对电...
  • 作者: 王韬 陈志刚 陈杨
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  359-365
    摘要: 以聚苯乙烯微球胶体晶体为硬模板、四氯化钛为氧化钛前驱体,结合控制浸渍-煅烧工艺制备了三维有序TiO2薄膜材料,重点考察了浸渍液中TiCl4的浓度对最终TiO2薄膜样品结构的影响.利用X射线衍...
  • 作者: 曹中明 杨元政 许佳雄 谢致薇
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  366-370,389
    摘要: 采用磁控溅射法制备铜锌锡(CZT)金属预制膜,再利用固态硫化法制备了Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜.研究了CZT金属预制膜中Sn的原子数分数对CZTS薄膜的化学成分、结构组织和光学性能的...
  • 作者: 冯奇亮 唐晓亮 桑胜波 连崑
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  371-376
    摘要: 基于行波介电泳原理,分析了电场强度和Clausius-Mossoti (C-M)因子的虚部对行波介电泳力的影响.对4种不同形状电极的电场强度分布进行了仿真建模,结果表明半圆形电极阵列有较好的...
  • 作者: 张宝顺 朱启发 王逸群 郭立建 韩军
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  377-383,401
    摘要: 对一种基于玻璃隔热桥结构芯片级原子钟物理系统进行了热学分析.通过理论方法对真空下无封装外壳物理系统各个导热路径进行了分析,同时用有限元方法分析了镀金涂层对其功耗的影响,并且进行了实验验证.实...
  • 作者: 姚宗 李丹丹 李赛男 杨帆 梁庭 洪应平 熊继军 齐蕾
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  384-389
    摘要: 用小挠度方形膜作为理论模型,提出了一种基于绝缘体上硅(SOI)敏感薄膜的硅压敏电阻变化率新型积分计算方法.针对传统中心点计算方法的不足,通过整个平面积分的方法计算电阻变化率,并计算出输出电压...
  • 作者: 李昕欣 王家畴 赵忆 陈方
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  390-395
    摘要: 介绍了一种新型单片集成电容式三轴微加速度计的加工方法,该方法采用非绝缘体上硅(SOI)的单硅片单面加工技术,易于与IC工艺兼容,而且成本低廉,成品率高,适用于批量生产,可替代传统的SOI工艺...
  • 作者: 李新梅 薛越
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  396-401
    摘要: 通过沉淀法,以炭黑为载体、氯化镧和四甲基氢氧化铵(TMAH)为原料制备了炭载纳米氧化镧催化剂.采用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对所获产物的组织结构进行表征,采用循环伏安法和旋转圆...
  • 作者: 何远东 杨洪星 陈晨
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2015年6期
    页码:  402-405
    摘要: 硅-硅直接键合硅片的机械减薄工艺对器件的性能有很大的影响.采用磨削、化学腐蚀和机械/化学抛光的方法对硅-硅直接键合硅片进行减薄加工,分析了减薄过程中各个工序键合片的平整度、弯曲度和翘曲度变化...

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

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2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

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