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【专利】
测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法
发明人:
顿爱欢
魏劲松
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2013-01-02
摘要:
一种测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法,其特征是在待测薄膜下设置一层氧化物膜层,该氧化物膜层在脉冲激光的作用发生分解反应生成O2,这些O2的压力使表面的待测薄膜发生体积膨胀,形成类似于球冠状凸起,通过测量该球冠凸起的高度和直径,计算出该球冠的弧长和表面积,进而得出该待测薄膜的线延伸率和面延展率,调节激光参数,获得最大球冠状凸起,测量最大球冠状凸起的高度和直径,计算该待测薄膜材料的最大线延伸率和延展率。本发明方法操作简单,不用专门的系统提供压力,可以测量多种材料的线延伸率和面延展率,测量薄膜的厚度可以达到纳米级。
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2.
【专利】
光存储材料存储特征静态测试装置
发明人:
徐文东
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2004-06-30
摘要:
一种光存储材料存储特征静态测试装置,主要适用各种光盘记录层材料存储特征的测试。包括测试光源部分、测试显示部分、光束写入读出部分、调整被测位置部分、监视显示部分和监视光源。其中光束写入读出部分是置于被测样品的被测记录层表面之上,有高数值孔径物镜与半球形固体浸润透镜结合为更高数值孔径的显微物镜。所以本发明比在先技术的测试装置分辨率高、测量精度高。更换高数值孔径物镜和半球形固体浸润透镜方便,调节被测样品的位置也方便。本发明中有监视显示部分和监视光源。可以直观地监视调焦过程,并直接观察记录光斑和记录点的形貌,使装置测试直观而操作方便,提高了测试效率。
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3.
【专利】
透红外光的含氟化物锗酸盐玻璃
发明人:
胡和方
曹国喜
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2002-10-23
摘要:
一种透红外光的含氟化物锗酸盐玻璃,是将氟化物和氧化物玻璃相结合,在主要包含GeO
2
的锗酸盐玻璃组成中,至少同时包含两种金属氟化物,含有二价的金属氟化物MF
2
和三价金属氟化物MF
3
,或者还含有四价金属氟化物M″F
4
。与在先技术相比,由于本发明的锗酸盐玻璃组成中,氧化物加入氟化物,降低了玻璃熔化的温度,降低了玻璃的粘度和折射率,使玻璃中OH基团含量大幅度减小,增加了3~5μm波段的透过率。在3μm波长处的透过率由在先技术的近25%提高到82%以上。
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4.
【专利】
扫描探针显微镜上的观察装置
发明人:
徐文东
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2003-10-01
摘要:
一种扫描探针显微镜上的观察装置,包括由套在底座上不动立柱上的可动套筒内的压簧构成的粗调焦机构。置放可动投影物镜的外套与机壳活动连接构成的精调焦机构。在置放在可动套筒顶上且压在压簧上面的机壳内,置有由不动投影物镜和可动投影物镜构成的投影物镜组。光源的发光中心置于不动投影物镜的焦点上。不动投影物镜经半反半透分光板反射光束的焦点在普通显微物镜的物面上。本实用新型的观察装置符合扫描探针显微镜对观察显微镜的要求,具有较长的工作距离,较大的数值孔径,调焦机构简单,操作方便,能够准确方便地观察扫描探针显微镜头部上的探针针尖。
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5.
【专利】
提高超分辨相位板光斑性能的装置
发明人:
查一昆
魏劲松
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2014-04-09
摘要:
一种提高超分辨相位板光斑性能的装置,特征在于其构成:沿光束前进方向依次是三环纯相位型超分辨相位板、数值孔径NA=0.95的物镜、Sb2Te3非线性饱和吸收薄膜,所述的三环纯相位型超分辨相位板的归一化半径为r1=0.13,r2=0.47,r3=1;三区的位相分别为:φ1=0,φ2=π,φ3=0;所述的物镜与所述的三环纯相位型超分辨相位板紧贴,所述的Sb2Te3非线性饱和吸收薄膜位于所述的物镜的焦平面,该Sb2Te3非线性饱和吸收薄膜的厚度的选择范围为10~100nm,非线性饱和吸收薄膜的线性吸收系数和非线性吸收系数分别为α0=5*107/m和β=-2*10-2m/w。本发明进一步减小光斑、降低旁瓣、延长焦深。
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6.
【专利】
超透镜薄膜结构的超分辨数字光盘
发明人:
魏劲松
施宏仁
侯立松
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2008-05-14
摘要:
一种超透镜薄膜结构的超分辨数字光盘,包括超透镜薄膜(2)和盘基(3),还有介电层(1),它们依次为介电层(1)/超透镜薄膜(2)/盘基(3),介电层(1)是氮化硅SiN或ZnS-SiO
2
;盘基(3)带有坑点,坑点尺寸小于380nm,最小坑点尺寸在200nm,其特征在于:超透镜薄膜(2)是Ag(x)Au(1-x)合金薄膜,其中x值在0-1之间变化。该光盘结构,通过使用激光波长为650nm红光,数值孔径为0.60的光学头,实现信息坑点尺寸在200nm及其以上的动态读出。该光盘的单面单层容量达到12-15GB,双面单层的容量达到25-30GB。
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7.
【专利】
测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法
发明人:
顿爱欢
魏劲松
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2011-02-23
摘要:
一种测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法,其特征是在待测薄膜下设置一层氧化物膜层,该氧化物膜层在脉冲激光的作用发生分解反应生成O2,这些O2的压力使表面的待测薄膜发生体积膨胀,形成类似于球冠状凸起,通过测量该球冠凸起的高度和直径,计算出该球冠的弧长和表面积,进而得出该待测薄膜的线延伸率和面延展率,调节激光参数,获得最大球冠状凸起,测量最大球冠状凸起的高度和直径,计算该待测薄膜材料的最大线延伸率和延展率。本发明方法操作简单,不用专门的系统提供压力,可以测量多种材料的线延伸率和面延展率,测量薄膜的厚度可以达到纳米级。
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8.
【专利】
一种制备L1
0
有序合金薄膜的方法
发明人:
王现英
干福熹
申请人:
上海应用技术学院
公开时间:
2007-05-09
摘要:
本发明公开了一种制备L1
0
有序合金薄膜的方法,将激光退火来实现薄膜结构从无序到有序的转变,激光器选用大功率的CO
2
激光器、Ar
+
激光器或Nd:YAG激光器或准分子激光器,照射到合金薄膜表面的激光功率密度范围在10~100W/mm
2
内,合金薄膜放在一个可以三维方向调节、自由运动的平台上,左右、上下方向的运动均可控,对合金薄膜的表面进行快速扫描,扫描的速率为1-10mm/s。本发明使合金薄膜在形成fct有序结构同时保持小的晶粒尺寸,降低晶粒之间的相互作用力,与传统的加热退火相比简化了制备工序,特别适合于L1
0
有序FePt合金薄膜的工业化生产工艺。
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9.
【专利】
含非线性掩膜层的超分辨结构
发明人:
张锋
施宏仁
徐文东
王阳
杨金涛
高秀敏
周飞
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2006-08-16
摘要:
一种用于只读式光盘的含非线性掩膜层的超分辨结构,依次是保护层、非线性反射膜和保护层,其特点是所述的保护层均由配比为硫化锌∶二氧化硅=80∶20复合材料组成;所述的非线性掩膜层由银铟锑碲(Ag
11
In
12
Sb
51
Te
26
)复合材料组成。本发明制作成本低廉,工艺简单,不仅可以实现小于超分辨信息记录点的读出,而且所获得的信噪比很高,大于40dB,读出循环性好。
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10.
【专利】
多波长可擦重写光存储材料及其制备方法
发明人:
黄伍桥
吴宜群
顾冬红
干福熹
申请人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
公开时间:
2004-08-25
摘要:
一种多波长可擦重写光存储材料及其制备方法,该材料为铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物;本发明的高溶解性能的铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物是将CuI加入到含四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物和金属碘化物(MI)的乙腈溶液中,在常温至85℃温度范围内,搅拌反应1~4小时即可得铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物;把铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物溶于二甲氨基乙醇或乙腈中,用超声波振荡后,过滤,把过滤后的均匀溶液旋涂到所用的基片上,即得到适合于514.5nm、650nm、或780nm可擦重写光信息存储薄膜。
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