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等离子体聚合:产生技术的现状,问题和最近的发展
等离子体聚合:产生技术的现状,问题和最近的发展
作者:
Kieser,J
李石金
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子体聚合
薄膜
沉积
摘要:
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篇名
等离子体聚合:产生技术的现状,问题和最近的发展
来源期刊
国外核聚变与等离子体应用
学科
物理学
关键词
等离子体聚合
薄膜
沉积
年,卷(期)
1990,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
67-68
页数
2页
分类号
O539
字数
语种
中文
DOI
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薄膜
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研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
国外核聚变与等离子体应用
主办单位:
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
544
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