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离子束辅助沉积的基本原理：I.过程的模型和薄膜成分的重复性
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文献信息
| 篇名 | 离子束辅助沉积的基本原理：I.过程的模型和薄膜成分的重复性 | ||
| 来源期刊 | 国外核聚变与等离子体应用 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 离子束 沉积 薄膜 IBAD系统 | ||
| 年，卷（期） | 1991,（4） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 51-64 | |
| 页数 | 14页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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