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PMMA人工晶状体表面的CF4/O2等离子体修饰
PMMA人工晶状体
CF4/O2
等离子体处理
生物相容性
透光性
CF4/Ar/O2等离子体对熔石英元件的修饰工艺
反应离子刻蚀
感应耦合等离子体
刻蚀速率
粗糙度
刻蚀形貌
O2介质阻挡放电微等离子体制备O3
氧化
反应器
制备
介质阻挡放电
臭氧
微等离子体
CF4气体ICP等离子体中的双温电子特性
感应耦合等离子体
CF4气体
朗谬尔探针
电子温度
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 潮湿环境中O2/CF4等离子体蚀刻的PI的介电行为
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 工学
关键词 氟化碳 等离子体蚀刻 聚酰亚胺 介电行为
年,卷(期) 1994,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 17-18
页数 2页 分类号 TN405.982
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1994(0)
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研究主题发展历程
节点文献
氟化碳
等离子体蚀刻
聚酰亚胺
介电行为
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
等离子体应用技术快报
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