对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩膜版质量的分析

• 作者: 王国荃 罗腾蛟
• 来源期刊: 上海微电子技术和应用
• 学科: 工学
• 关键词: 尺寸精度 半导体器件 电子束曝光机 掩膜
• 年，卷（期）: 1996,（4）
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7

摘要

本文在成熟使用电子束曝光机制作各处掩膜版的基础上，针对主人掩膜版质量的三大因素即：图形尺寸精度，图形套准精度，芯片合格率逐一详细分析，以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩膜版。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王国荃	中国科学院上海冶金研究所	1	0	0.0	0.0
2	罗腾蛟	中国科学院上海冶金研究所	1	0	0.0	0.0