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摘要:
利用光荧光光谱(PL),俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子谱(XPS)对快速热处理(NH4)2Sx钝化InP表面进行研究,结果表明采取这种方法钝化后的InP表面荧光强度是未钝化的10倍.XPS结果表明热处理可以大大增强S-In结合,增强硫的钝化效果.最后对硫钝化增强的有关机理作了讨论.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 快速热退火对InP(100)表面硫钝化的增强作用
来源期刊 中国学术期刊文摘 学科 工学
关键词 化学钝化 热退火 X射线光电子谱
年,卷(期) 1998,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 228-230
页数 3页 分类号 TG1
字数 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
化学钝化
热退火
X射线光电子谱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国学术期刊文摘
半月刊
1005-8923
11-3501/N
北京市海淀区学院南路86号
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出版文献量(篇)
9568
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