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碳化硅(SIC)器件制造工艺中的干法刻蚀技术
碳化硅(SIC)器件制造工艺中的干法刻蚀技术
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摘要：
简述了在SIC材料半导体器件制造工艺中,对SIC材料采用干法刻蚀工艺的必要性.总结了近年来SIC干法刻蚀技术的工艺发展状况.
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文献信息
| 篇名 | 碳化硅(SIC)器件制造工艺中的干法刻蚀技术 | ||
| 来源期刊 | 西安电子科技大学学报 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 碳化硅(SIC) 干法刻蚀 制造工艺 | ||
| 年，卷（期） | 1998,（5） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 120-124 | |
| 页数 | 5页 | 分类号 | TN405.98 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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研究主题发展历程
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碳化硅(SIC)
干法刻蚀
制造工艺
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期刊影响力
西安电子科技大学学报(自然科学版)
主办单位：
西安电子科技大学
出版周期：
双月刊
ISSN：
1001-2400
CN：
61-1076/TN
开本：
出版地：
西安市太白南路2号349信箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
chi
出版文献量（篇）
4652
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