质子、氚和α在Ar和Kr中的径迹长度测量与计算

• 作者: 唐国有 张国辉 施兆民 陈金象
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 屏栅电离室 径迹长度(X) 实验测量 理论计算
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 50-55
• 页数: 6页
• 分类号: TL815|TL811.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.1999.01.009

摘要

用屏栅电离室对α、t和p在Ar与Kr中到达电离密度重心的径迹长度(X)进行了测量,并根据Trim程序和其它文献的阻止本领数据对其进行了计算.理论值与实验结果符合较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐国有	北京大学技术物理系重离子物理研究所	17	128	5.0	11.0
2	张国辉	北京大学技术物理系重离子物理研究所	20	87	5.0	8.0
3	陈金象	北京大学技术物理系重离子物理研究所	10	38	5.0	5.0
4	施兆民	北京大学技术物理系重离子物理研究所	1	6	1.0	1.0