掺杂C60薄膜的制备及光电特性

• 作者: 严辉 宋雪梅 王波 邹云娟 陈光华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: C60 掺杂 电导率 电弧法 离子注入 等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 页码范围: 359-363
• 页数: 5页
• 分类号: O484.42|TN304.18
• 字数: 2914字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.1999.04.010

摘要

在电弧法制备的过程中添加氮气或B2O3粉末,制备了氮、硼替位式掺杂C60.硼掺杂和氮掺杂C60均显示明显的半导体导电特性,且室温电导率比未掺杂C60薄膜提高1～2个量级.用共蒸发的方法制备出了硫掺杂C60薄膜,其电导率～温度曲线中存在一个过渡区,过渡区两侧表现出明显的半导体导电特性,这与掺入C60薄膜中的硫杂质的存在状态有关.其室温电导率比掺杂前提高4个量级,光致发光也明显增强.另外还报道了用离子注入和射频等离子体辅助真空沉积的方法制备掺杂C60薄膜的初步结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严辉	北京工业大学应用物理系	178	1225	16.0	29.0
2	王波	北京工业大学应用物理系	80	638	11.0	23.0
3	邹云娟	北京工业大学应用物理系	6	20	3.0	4.0
4	陈光华	北京工业大学应用物理系	65	396	11.0	16.0
5	宋雪梅	北京工业大学应用物理系	44	498	11.0	21.0