Si3N4粉末表面的非均质成核法包覆及其浆料流变性的研究

• 作者: 侯耀永 张灿英 李镇江 药佩珍
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅 表面包覆改性 非均质成核 流变性能
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 页码范围: 562-568
• 页数: 7页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.1999.05.009

摘要

在研究Si3N4粉末表面包覆工艺及各因素影响规律的基础上,确定了非均质成核法对Si3N4粉末表面包覆改性的最佳工艺范围.利用透射电镜、X射线粒度分布仪、粘度测定仪、zeta电位测定仪对包覆前后Si3N4浆料进行了分析.结果表明:在最佳包覆工艺范围内,Si3N4粉末表面均匀包覆一层Al(OH)3,并包覆后Si3N4浆料的zeta电位发生明显变化,粒度分布更加均匀,流变性能得到明显改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯耀永	青岛化工学院高技术陶瓷研究室	12	297	9.0	12.0
2	李镇江	西北工业大学401教研室	3	66	3.0	3.0
3	药佩珍	青岛化工学院高技术陶瓷研究室	1	25	1.0	1.0
4	张灿英	青岛化工学院高技术陶瓷研究室	2	32	2.0	2.0