LDH催化制备单晶α-Si3N4纳米线研究

• 作者: 李克峰 毛新华 王健 谢焕文 邹黎明 雷超
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 氮化硅纳米线 LDH催化剂 化学气相沉积 热稳定性 VLS机制
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 材料化学工程与纳米技术
• 页码范围: 4471-4478
• 页数: 8页
• 分类号: TB32
• 语种: 中文
• DOI: 10.11949/j.issn.0438-1157.20180760

摘要

提出了一种以LDH(水滑石类化合物)为催化剂,纳米硅粉为原料,在N2-H2混合气氛下制备单晶α-Si3N4纳米线的CVD(化学气相沉积)方法.研究结果表明:当H2含量小于0.5%时,所制备的 Fe/Mg/Al LDH催化剂具有优良的高温热稳定性,在 1250℃下煅烧与还原后仍可保持自身结构完整与催化活性.通过降低还原温度与 LDH中Fe含量、在LDH中引入Mo元素等手段,有效地降低金属Fe纳米晶粒直径、增大成核密度,所制备单晶α-Si3N4纳米线面密度可达5×1014～9×1014m?2,直径为30～50 nm,长度达20～80 μm(长径比＞1000).进一步研究表明本实验中纳米线为VLS(气液固)生长机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢焕文	广东省科学院广东省材料与加工研究所	8	7	1.0	2.0
2	邹黎明	广东省科学院广东省材料与加工研究所	9	16	2.0	3.0
3	毛新华	广东省科学院广东省材料与加工研究所	4	3	1.0	1.0
4	王健	广东省科学院广东省材料与加工研究所	2	1	1.0	1.0
5	雷超	广东省科学院广东省材料与加工研究所	1	1	1.0	1.0
6	李克峰	广东省科学院广东省材料与加工研究所	1	1	1.0	1.0