LIGA掩模板的制备与同步辐射X射线深度光刻的研究

• 作者: 丁桂甫 倪智萍 朱军 李昌明 毛海平 赵小林 郭晓云 陈迪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: LIGA PMMA 徽加工 微机电系统 掩模板 同步辐射光刻 X射线
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术电子束技术
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TP271+4
• 字数: 1756字
• 语种: 中文

摘要

采用同步辐射进行深度X射线光刻是LIGA工艺的模板的制备、光刻胶的涂制与深度X射线光刻等多个工艺环节,该技术在深宽比要求高的微光、微机械及微机电系统的元件制造领域有独特优势[1].报道采用LIGA工艺制作微齿轮所涉及上述工艺的研究结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈迪	上海交通大学信息存储研究中心	38	301	8.0	16.0
2	郭晓云	上海交通大学信息存储研究中心	6	24	3.0	4.0
3	朱军	上海交通大学信息存储研究中心	52	663	14.0	25.0
4	赵小林	上海交通大学信息存储研究中心	56	549	13.0	20.0
5	丁桂甫	上海交通大学信息存储研究中心	60	503	12.0	19.0
6	倪智萍	上海交通大学信息存储研究中心	5	54	3.0	5.0
7	毛海平	上海交通大学信息存储研究中心	5	25	3.0	5.0
8	李昌明	上海交通大学信息存储研究中心	1	3	1.0	1.0