金刚石膜同步辐射X-射线掩模的研究进展

• 作者: 万静 冉均国 苟立
• 来源期刊: 四川师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 X-射线光刻掩模 CVD沉积工艺 薄膜应力 薄膜粗糙度
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 教育教学 及其它
• 页码范围: 618-621
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3453字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8395.2001.06.021

摘要

超大规模集成电路(VLSI)线宽不断缩小促进了光刻技术的发展和分辩率的提高,缩短光波长和改进掩模是提高分辨率的重要途径.探索采用X-射线光刻技术时,用金刚石薄膜作为掩模基膜的研究现状与发展方向.金刚石薄膜因其具有优异的机械、光学和热学性能,已成为新一代掩模基膜材料的理想候选材料.介绍了金刚石薄膜用作掩模基膜材料上取得的实验成果,面临的问题和可能解决的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苟立	四川大学无机非金属材料系	100	858	13.0	25.0
2	冉均国	四川大学无机非金属材料系	130	1122	16.0	28.0
3	万静	四川大学无机非金属材料系	23	52	4.0	5.0