应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿

• 作者: 杉山进 李以贵 陈少军
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 聚甲基丙烯酸甲酯 三维微结构 掩模 吸收体
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 420-425
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1737字
• 语种: 中文

摘要

提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构.通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状.实验显示,最终的结构形状并非完全与掩模板上吸收体的形状一致.如果不对X光光刻掩模板的吸收体形状进行补偿,即会使被加工的微结构侧面变形,从而影响微针的性能.分析了微针阵列侧面变形的原因,认为这种变形是由于显影时间与曝光量之间的非线性关系导致结构形状与曝光量分布不完全一致造成的.利用PCT方法制作的PMMA微针其长度为100～750 μm,直径为30～150 μm,针尖的直径最小可达100 nm.通过对LIGA掩模板上的吸收体图形进行适当的补偿,使吸收体图形从中空的双直角三角形变为中空的半椭圆图形,增强了带沟道的微注射针阵列的强度.