用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究

• 作者: 刘志凌 叶甜春 吕反修 李东辉 陈大鹏
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 成核 金刚石薄膜 MPCVD X射线光刻掩模
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 887-894
• 页数: 8页
• 分类号: TB43
• 字数: 3063字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.04.030

摘要

介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度、改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响, 获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4%,衬底温度700℃,形核时间14min;这套工艺不仅改善了自支撑金刚石薄膜窗口的光学性能,还有效地降低了膜的内应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料系	151	1208	18.0	24.0
2	叶甜春	中国科学院微电子所	200	911	14.0	18.0
3	陈大鹏	中国科学院微电子所	79	466	10.0	17.0
4	李东辉	中国科学院微电子所	14	109	7.0	10.0
5	刘志凌	北京科技大学材料系	1	3	1.0	1.0