用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅

• 作者: 伊福庭 叶甜春 孙加兴 谢常青 陈大鹏
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 PHEMT T型栅 三层胶工艺
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 358-360
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1515字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.03.024

摘要

采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅,一次曝光,分步显影,基本解决了不同胶层间互融的问题.该方法制作效率高,所制作的T型栅形貌好,头脚比例可控,基本满足器件制作要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶甜春	中国科学院微电子中心	200	911	14.0	18.0
2	陈大鹏	中国科学院微电子中心	79	466	10.0	17.0
3	谢常青	中国科学院微电子中心	50	258	9.0	12.0
4	孙加兴	中国科学院微电子中心	6	56	5.0	6.0
5	伊福庭	中国科学院高能物理研究所	2	13	2.0	2.0